Sensor de Desplazamiento Láser. Ultra alta velocidad y precisión

Serie LK-G5000

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Cabezal de sensor, tipo amplio, láser clase 2 LK-H057

LK-H057 - Cabezal de sensor, tipo amplio, láser clase 2

*Los accesorios que se muestran en la imagen son únicamente para fines ilustrativos. Es posible que no estén incluidos con el producto.

Hoja de datos (PDF)

Manuales

Datos CAD

Vista de 360° (3D PDF)

Software

  • CE Marking

Especificaciones

Modelo

LK-H057

Modo de montaje

Difuso reflectivo

Distancia de referencia

50 mm 1.97"

Rango de medición

±10 mm ±0.39"*1

Fuente de luz

Tipo

Láser semiconductor rojo

Longitud de onda

655nm

Clase de láser

IEC 60825-1: Clase 2
FDA (CDRH) Part 1040.10: Clase II

Emisión

0.95mW

Diámetro del punto (a distancia estándar)

50 µm x 2,000 µm

Linealidad

±0.02% de E.T. (E.T.= 20 mm 0.79")*2

Repetibilidad

0.025 µm*3

Ciclo de muestreo

2.55/5/10/20/50/100/200/500/1000 µs (9 niveles seleccionables)

Características temperatura

0.01% de E.T./°C (E.T.= 20 mm 0.79")

Resistencia ambiental

Grado de protección

IP67

Luz ambiente

Lámpara incandescente o lámpara fluorescente: 10,000 lux máx.

Temperatura ambiente

De 0 a +50 °C 32 a 122 °F

Humedad relativa

35 a 85 % HR (Sin condensación)

Resistencia a la vibración

10 a 55 Hz, Amplitud doble 1.5 mm 0.06", 2 horas en cada una de las direcciones X, Y y Z

Material

Aluminio troquelado

Peso

Aprox. 260 g

*1 Rango de medición cuando el ciclo de muestreo es de 20 µs o más.
*2 Este valor se obtiene cuando el objeto KEYENCE estándar (pieza blanca difusa o, para el LK-H008/LK-H008W únicamente, pieza metálica con superficie especular) se mide en modo de medición normal.
*3 Este valor se obtiene cuando el objeto KEYENCE estándar (pieza blanca difusa o, para el LK-H008/LK-H008W únicamente, pieza metálica con superficie especular) se mide a la distancia de referencia con el nú ero de mediciones promedio ajustado en 16384. El valor entre paréntesis es un ejemplo típico de una medición con el número de mediciones promedio ajustado en 65536 y el ciclo de muestreo en 200 µs.

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